ジェットクリーナーは、高圧の二酸化炭素を噴出し、
1ミクロン未満の微粒子・煤塵を洗浄します。
高圧の二酸化炭素が、空気中でドライアイス粒子になり、
半導体ウェハ（Si、InP、GaAs）、イメージセンサー、薄膜、
光学レンズ、ディスク、ガラス表面の微粒子・煤塵・炭化水素を
ガスで吹き飛ばして、洗浄します。
従来の超音波より洗浄能力が圧倒的に優れ、簡単・手間要らず
ですぐに使えます。
炭酸ガスのタンク（液体または気体）だけで、使用できます。
レギュレータやコネクタなどは、一切必要ありません。
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例1、シリコンウェハ（顕微鏡倍率x1000）に超硬チップでキズをつける。1ミクロン以下の微粒子・煤塵が見られる。
洗浄後、微粒子・煤塵は見られない（右図）。ガラス、セラミック、金属でも同様の結果が得られる。
例2、シリコンウェハ（顕微鏡倍率x1000）の皮脂の汚れ（左図）。
洗浄後、汚れはすべて除去された（右図）。
例3、左図は、金属のX線光電子分光スペクトル：表面の金（Au）は検出できず、炭素系スペクトルが占めている。
洗浄前の金の濃度は0.3%、炭素・金の比率は281である。
洗浄後、金のピークが明確になり、濃度は24.3%に上がった。シリコンおよびナトリウムのピークは無くなり、
炭素のピークは下がり、炭素・金の比率は2.6になった。
例4、原子間力顕微鏡（2 x 2 um）：ポリマーフィルムの生成過程で、石英下地のカット及び洗浄。
左図：アセトン、エタノール、トルエンにて超音波洗浄後も汚れが目立つ。最小の微粒子のサイズは40nm以下。
右図：洗浄後、微粒子は除去された。文献など従来0.1umが限界とされたが、40nm以下の微粒子の除去にも成功した。
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価格：\298,000
ご注意：
ジェットクリーナーは、ドライアイスをワーク表面にぶつけ、微粒子・皮脂汚れを浮かして、ガスで飛ばして洗浄します。
高圧洗浄ではありません。また、洗浄スポットも小さいため、以下が最適なワークとなります。
1、小さいワーク、50-100mm角以下のもの
2、熱伝導率の良いもの（結露しない）
3、肉眼で確認しづらい、ミクロンレベルの微小な有機物、微粒子、指紋などの汚れ、皮脂、潤滑油、炭化水素の残留物
4、薄膜、ウェハ、センサー、光学部品などデリケートなワーク
苦手・不向きなワーク
1、大きな汚れ、有機物など固着した汚れ（注：ブラストや圧力での洗浄ではありません）
2、ガラス・鉄など熱伝導率の悪いもの（注：結露します）
3、サイズが大きい（洗浄スポットが小さいため）
ご質問、デモ機やお見積もりなど、お気軽にお知らせください。
デモ機は1週間ほどお貸しできます。
